XSN/B-FL1T1K0B1S1 智能计数器报价湘湖电器

在氨性蚀刻中，定所有其它参数不变，那么蚀刻速率主要由蚀刻液中的氨(NH3)来决定。因此用新鲜溶液与蚀刻表面作用，其目的主要有两个：一是冲掉刚刚产生的铜离子;二是不断进行反应所需要的氨(NH3)。在印制电路工业的传统知识里，特别是印制电路原料的商们，大家公认，氨性蚀刻液中的一价铜离子含量越低，反应速度就越快.这已由经验所证实。事实上，许多的氨性蚀刻液产品都含有一价铜离子的特殊配位基(一些复杂的溶剂)，其作用是降低一价铜离子(这些即是他们的产品具有高反应能力的技术秘诀)，可见一价铜离子的影响是不小的。

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